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物镜VMU-L4B日本三丰Mitutoyo显微镜VMU-LB

物镜VMU-L4B日本三丰Mitutoyo显微镜VMU-LB

简要描述:

物镜VMU-L4B日本三丰Mitutoyo显微镜VMU-LB
378-513 378-514
金属、树脂、印刷面、微小的

・适用于YAG激光器(近红外、可见、近紫外线、紫外线)的微细加工※1
半导体电路的切割、修剪、修正、标记、薄膜(绝缘膜)的去除、加工、液晶滤色器等修复(缺陷修正)等。
・支持红外光学系统※2
硅系的内部观察、红外线的光谱特性分析等。

产品型号:378-513/378-514

产品时间:2021-03-19

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物镜VMU-L4B日本三丰Mitutoyo显微镜VMU-LB

 

特征

Mitutoyo 378系列物镜具有世界上长的工作距离和无限远校正光学系统。这些物镜可提供高倍率下的灵活观察和色差的独立校正。

  • 长工作距离的物镜可在透镜表面和聚焦的工件表面之间提供出色的间隙,从而可以观察由于突出的突起而通常难以聚焦的工件。
  • 冶金复消色差物镜(M Plan Apo)物镜可在整个视场中提供平坦,无色差的图像,使其适用于任何类型的显微镜。
  • 特殊设计的物镜还可用于近红外辐射,近紫外辐射和紫外线辐射或各种厚度的LCD屏幕玻璃的校正。

VMU
378 系列 — 视频显微镜系统
• 紧凑轻量型显微镜,相机观察用型。适于
检测金属表面、半导体、液晶面板、树脂等。
• 多种镜体通常用作适用于专业器械的OEM
(原厂委制) 产品,如那些利用YAG (近红外、
可见、近紫外或紫外) 激光* 对半导体晶片
进行检测和修补的设备。
* 不保证激光系统产品的性能和安全性。
应用:切割、修整、校正、 给半导体电路做
标记/ 薄膜(绝缘膜) 清洁与加工、液晶彩色
滤光器的修复 (校正错误)。还可用作光学观
察剖面图以便探头分析半导体故障。
• 对于VMU-LB 和 VMU-LB, 显微镜主件的刚度
和总体性能与之前的型号相比已有所提高。
• 应用*: 晶体硅的内部观察、红外光谱特征
分析等。
* 需要红外光源和红外摄像机。
• 配有孔径光阑的远心光学系统是表面照明
光学系统上的标准配件。适于需要均匀
照明的图像处理。可用于尺寸测量、形状
检验、定位等。
• 设计和制造均能满足您的需求,如双摄影
机架、双(低/ 高) 放大率观察。

物镜VMU-L4B日本三丰Mitutoyo显微镜VMU-LB

 

378-837-720倍0.3615.0毫米--
378-838-850倍0.4012.0毫米--
378-839-580倍0.5511.0毫米--
378-840-720倍0.2830.5毫米--
378-841-750倍0.4220.0毫米--
378-842-780倍0.5013.0毫米--
378-843-7100倍0.5513.0毫米--
378-848-350倍0.5013.89毫米--

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